Target sputtering titaniummerupakan bahan kunci dalam teknologi deposisi uap fisik (PVD), khususnya dalam proses pelapisan sputtering. Bahannya terbuat dari bahan mentah titanium, dan banyak digunakan di-industri teknologi tinggi seperti elektronik, teknologi informasi, bidang dekoratif, dan manufaktur kaca otomotif. Dalam aplikasi ini, target titanium secara khusus diterapkan dalam pelapisan di sirkuit terpadu, pelapis permukaan panel layar panel datar, atau sebagai lapisan pelapis untuk kaca dekoratif dan fungsional.
Persyaratan kinerja inti target sputtering titanium
Kinerja bahan target titanium secara langsung menentukan kualitas film yang disimpan dan kinerja perangkat akhir.
Kemurnian: Kemurnian adalah salah satu indikator kinerja paling penting dari bahan target, dan hal ini secara signifikan mempengaruhi kinerja film. Persyaratan kemurnian sangat bervariasi tergantung pada aplikasi yang berbeda. Tren dalam pembuatan chip adalah wafer silikon semakin besar dan jalur sirkuit semakin tipis. Ukuran wafer silikon telah ditingkatkan menjadi 12 inci, dan lebar kabel secara bertahap dikurangi menjadi 0,25 μm, 0,18 μm, dan 0,13 μm. Oleh karena itu, persyaratan kemurnian bahan inti, bahan target titanium, menjadi semakin ketat. Untuk proses 0,35 μm, diperlukan material target dengan kemurnian 99,995%, dan untuk proses 0,18 μm, diperlukan material target dengan kemurnian 99,999% atau bahkan kemurnian ultra-tinggi.
Konten pengotor: Pengotor pada padatan bahan target dan oksigen serta uap air yang teradsorpsi di pori-pori internal merupakan sumber utama kontaminasi pada film yang diendapkan. Aplikasi yang berbeda memiliki batasan yang sangat ketat pada konten pengotor tertentu. Misalnya, aluminium murni dan paduan aluminium yang digunakan dalam industri semikonduktor memiliki persyaratan khusus yang sangat ketat untuk kandungan logam alkali dan kandungan unsur radioaktif.
Kepadatan: Kepadatan tinggi sangat penting untuk mengurangi pori-pori internal pada bahan target dan meningkatkan kinerja film yang tergagap. Kepadatan bahan target tidak hanya mempengaruhi laju sputtering tetapi juga secara signifikan mempengaruhi sifat listrik (seperti resistivitas) dan sifat optik film. Secara umum, semakin tinggi kepadatannya, semakin baik performa filmnya. Pada saat yang sama, kepadatan tinggi dan kekuatan tinggi juga memungkinkan material target lebih tahan terhadap tekanan termal selama proses sputtering, sehingga mengurangi risiko retak. Oleh karena itu, kepadatan merupakan indikator kinerja utama untuk mengukur kualitas material target.
Ukuran butir dan distribusinya: Ukuran butir bahan target berkisar dari mikrometer hingga milimeter. Efisiensi sputtering target butiran halus lebih unggul dibandingkan target butiran kasar. Bahan target dengan ukuran butir seragam lebih cenderung menghasilkan lapisan film dengan ketebalan seragam, yang merupakan jaminan kinerja utama untuk proses pelapisan layar panel datar-area besar.
Aplikasi Bahan Target Titanium
Industri Semikonduktor: Bahan target titanium dapat digunakan untuk memproduksi komponen elektronik, seperti fotodioda, fototransistor, fotoreceiver dan pemancar, dll.
Bidang Optoelektronik: Bahan target titanium dapat digunakan untuk memproduksi perangkat optoelektronik, seperti LED dan sel surya, dll.
Bidang Bahan Magnetik: Bahan target Titanium dapat digunakan untuk memproduksi hard disk dan kartu magnetik, dll.
Bidang-teknologi Tinggi Lainnya: Bahan target titanium juga banyak digunakan dalam paduan-suhu tinggi, bahan konduktif, katalis kimia, dan peralatan medis, dll.
Bidang-bidang ini tidak hanya membutuhkan material dengan kekuatan tinggi dan ketahanan terhadap korosi, tetapi juga sifat kimia dan biokompatibilitas yang stabil. Bahan target titanium secara tepat memenuhi persyaratan ini dan telah menjadi bahan penting dalam bidang ini.
Baoji Yibaite Bahan Baru Technology Co., Ltd- pemasok bahan target titanium di Baoji, Tiongkok