Bahan Sasaran Titanium

• Bahan target titanium terbuat dari-titanium atau paduan titanium dengan kemurnian tinggi. Kemurnian 99,9% hingga 99,9999%. Mereka adalah jenis bahan yang sangat murni, diproduksi melalui proses deposisi uap fisik (PVD), dan terutama digunakan dalam teknologi pelapisan sputtering.
• Titanium sendiri adalah logam transisi dengan ketahanan dan kekuatan panas yang sangat baik, itulah sebabnya bahan target yang dibuat darinya bekerja dengan baik di lingkungan-suhu dan-tekanan tinggi.
• Jenis bahan target ini terutama digunakan dalam bidang semikonduktor, pelapis optik, pelapis dekoratif, anti-korosi industri, dan bidang lainnya, dan merupakan salah satu bahan dasar utama dalam-manufaktur kelas atas.

• Spesifikasi kemurnian:

99,9% (3N): Biasa digunakan dalam bidang seperti pelapis dekoratif dengan persyaratan kemurnian yang relatif rendah dan pelapis alat.

Lebih besar atau sama dengan 99,99% (4N): Ini adalah dasar untuk aplikasi di bidang energi baru (seperti tenaga surya).

99,995% (4N5): Kemurnian khas bahan target titanium mainstream yang digunakan dalam semikonduktor.

Lebih besar dari atau sama dengan 99,999% (5N): Terutama digunakan untuk pembuatan perangkat semikonduktor kelas atas.

Lebih besar dari atau sama dengan 99,9999% (6N): Ini terutama digunakan dalam pembuatan sirkuit terpadu skala sangat besar (VLSI) dengan kapasitas 16 megabit atau lebih, dan ini mewakili tingkat kebutuhan tertinggi.

• Bentuk dan ukuran bahan target titanium dibagi menjadi dua kategori. Mereka juga dapat disesuaikan sesuai dengan kebutuhan pelanggan untuk memenuhi kebutuhan lingkungan aplikasi yang berbeda.

Bahan target berbentuk silinder

Diameter umum: 60mm, 65mm, 95mm, 100mm (Kebanyakan digunakan untuk dekorasi dan industri perkakas)

Panjang umum: 30mm, 32mm, 40mm, 45mm

Spesifikasi umum untuk lapisan wafer: Φ200mm (wafer 8 inci), Φ300mm (wafer 12 inci)

• Bahan target berbentuk silinder (target berputar)

Ini adalah pilihan utama untuk pelapisan{0}}area luas, banyak digunakan pada panel display dan bidang fotovoltaik, dengan tingkat pemanfaatan yang lebih tinggi. Ukurannya beragam dan perlu disesuaikan dengan desain lini produksi.

• Sifat bahan

Berdasarkan persyaratan titik leleh tinggi dan kepadatan rendah

Dengan persyaratan yang relatif tinggi untuk keseragaman dan pengendalian pengotor

 Industri semikonduktor: Bahan target titanium digunakan dalam manufaktur semikonduktor untuk menyimpan film titanium, berfungsi sebagai lapisan konduktif atau lapisan penghalang, dan diterapkan secara luas di sirkuit terpadu dan perangkat mikroelektronik.

 Lapisan Optik: Target titanium dapat digunakan untuk menghasilkan lapisan reflektifitas atau-anti pantulan tinggi, yang antara lain diterapkan pada lensa optik, layar tampilan, dan panel surya.

 Lapisan Dekoratif: Substrat titanium dapat dilapisi dengan berbagai warna melalui proses sputtering, dan banyak digunakan dalam bidang jam tangan, perhiasan, dan dekorasi rumah.

 Perangkat medis: Bahan titanium digunakan untuk membuat pelapis biokompatibel, yang diterapkan pada perangkat medis seperti sambungan buatan dan implan gigi, untuk meningkatkan daya tahan dan biokompatibilitasnya.

 Dirgantara: Bahan titanium digunakan untuk menghasilkan pelapis yang tahan terhadap suhu tinggi dan korosi, dan diterapkan pada komponen mesin pesawat dan perlindungan permukaan pesawat ruang angkasa.

 Sektor energi: Bahan target titanium digunakan dalam baterai litium-ion dan sel bahan bakar untuk menyiapkan bahan elektroda, sehingga meningkatkan kinerja dan masa pakai baterai.

Baoji Yibaite Bahan Baru Technology Co., Ltdadalah produsen dan pemasok produk titanium terbaik. Kami memiliki tim penelitian dan pengembangan profesional dan banyak pengalaman produksi. Kami telah mendapat sertifikat GB/T 19001-2016/ISO9001:2015 dan sertifikat ISO 13485.

 

Baoji Yibaite New Materials Technology Co., Ltd menawarkan bahan dan layanan titanium profesional kepada Anda.

Permintaan Penawaran